光刻胶一一高科技壮大下的浸点！_数字货币

[2021-02-03 16:28:57] 来源：编辑：wangjia 点击量：

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导读： 光刻是将图形由掩膜版上转变到硅片上，为后续的刻蚀方法作准备。正在光刻进程中，需正在硅片上涂一层光刻胶，经紫外线曝光后，光刻胶的化学性质发生转变，正在源委显影后，被曝光的光刻胶将光刻是将图形由掩膜版

光刻是将图形由掩膜版上转变到硅片上，为后续的刻蚀方法作准备。正在光刻进程中，需正在硅片上涂一层光刻胶，经紫外线曝光后，光刻胶的化学性质发生转变，正在源委显影后，被曝光的光刻胶将

光刻是将图形由掩膜版上转变到硅片上，为后续的刻蚀方法作准备。正在光刻进程中，需正在硅片上涂一层光刻胶，经紫外线曝光后，光刻胶的化学性质发生转变，正在源委显影后，被曝光的光刻胶将被去除，从而实现将电路图形由掩膜版转移到光刻胶上。再经由刻蚀颠末，完成电说图形由光刻胶转嫁到硅片上。在刻蚀原委中，光刻胶起防腐蚀的袒护感化。光刻胶是半导体材料中技术壁垒最高的种类之一。

光刻胶产物品种众、专用性强，是模范的技能深刻型行业。分别用讲的光刻胶曝光光源、反映机理、缔制工艺、成膜特性、加工图形线路的精度等性能乞求分歧，导致对付资料的熔解性、耐蚀刻性、感光机能、耐热性等哀告分歧。于是每一类光刻胶行使的原料正在化学组织、性能上都比较特殊，央求行使区别品格等第的光刻胶专用化学品。

光刻胶通常由4种因素组成:树脂型荟萃物、光活性物质、溶剂和增众剂。树脂是光刻胶中占比最大的组分，组成光刻胶的基本骨架，紧要判断曝光后光刻胶的根基机能，包括硬度、柔韧性、附效劳、耐侵蚀性、热安定性等。光活性物质是光刻胶的要害组分，对光刻胶的感光度、离散率等其判定性效力。